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05/02/2018

Diseñadora Karyn Coo representará a Epson Chile en New York Fashion Week 2018

Karyn Coo es la carta de Epson Chile para participar en el “Digital Couture Project - Epson New York Fashion Week 2018”. Su estilo atemporal, clásico y con toques roqueros y bohemios se impondrá en la cuarta versión del evento, que reúne a más de 10 diseñadores de América, importantes empresas de la industria textil, prensa internacional y celebridades, y que tiene como objetivo acercar la técnica de la sublimación al mundo de la moda a través de las creaciones de estos diseñadores.

Karyn Coo es la diseñadora detrás de la marca que lleva su propio nombre y que hoy luce en cuatro tiendas en Santiago y en su sitio web https://karyncoo.com/. Nacida en la ciudad de Temuco, Karyn dio un salto en su carrera luego de ganar, en 2011, Project Runway Latin América, donde compitió con 14 diseñadores de Latinoamérica. A partir de ese momento su crecimiento ha sido exponencial llevando sus diseños a otros países de la región.

Sobre el viaje y la oportunidad de poder participar en este gran evento donde el mundo de la moda y la tecnología se unen, Coo reconoció estar encantada: “Estoy muy ilusionada con este tema. Hace tiempo que tenía ganas de desarrollar estampados y hacer diseños con la sublimación. Para mi es una faceta nueva que me permite salir de la zona de confort y hacer cosas únicas que nadie más las va a tener. Va a ser la primera vez que utilizo esta tecnología”.

En cuanto a la colección de 4 outfits que presentará en el Epson Digital Couture Project, Karyn adelantó que será en torno a La Pincoya, sirena de la mitología de la isla de Chiloé, sur de Chile, que dependiendo de su estado de ánimo favorecía a pescadores con buena pesca. “Van a ser estampados con muchos colores, peces y aletas de pescado, con movimiento. Va a ser muy femenino”, agregó.

La sublimación es una técnica utilizada por Epson para la impresión de telas mediante la transferencia de la tinta a través de la aplicación de calor. Los diseños serán impresos en equipos SureColor Línea F, equipos de alta productividad y capaces de reproducir imágenes y colores de calidad profesional, gracias a esto los diseñadores no tienen límites en su capacidad creativa.

El evento se llevará a cabo el próximo 6 de febrero durante la semana de la moda en Nueva York en el Pier 17.

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